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隔振光學平臺隔振處理頻率高于氣墊隔振平臺

2020-03-24 16:07:12

我們生產的隔振光學平臺它的隔振基礎部分可根據具體要求, 在聚光的產品三個系列中選用不同型號的隔振基礎. 其中氣墊系列隔振處理后1.5-3Hz, 阻尼系列隔振處理后頻率4-6Hz。


調節支撐部分: 采用耐磨絲桿和平面推力球軸承, 使用時輕松可靠。光學平臺廠家


       自動平衡系統: 采用空氣伺服系統, 自動調整水平. 它的突出特點是把系統對微振的響應反饋到系統中, 改變隔振特性, 提高隔振效果, 在超載偏重的實驗條件下, 瞬間達到初始的平衡狀態。

光學平臺廠家地址

光學平臺使用時注意事項:


1、 不能用酸性液體清洗本產品,以免破壞產品表面質量。


2、 不能將本產品放置在高溫、潮濕及高強度振源處。


3、 不能用水沖洗本產品。


4、 本產品長時間處于一種狀態下,請用水平儀調整臺面水平。


5、 工作臺面上擱置的任何設備或工具,都必須小心輕放,盡量不要相對磨擦,以避免損傷工作臺面,降低使用精度。


6、 工作臺面安裝孔,是用于固定設備的M6螺孔,使用時避免用力過大,影響工作臺精度。


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